‹ 一覧に戻る

CVC・事業会社系VC

TEL Venture Capital, Inc.

TEL Venture Capital, Inc.
日本グローバル
各問い合わせ先はVC・CVC各社が公開している公式窓口です。大手町プレップが投資、採用または紹介を保証するものではありません。掲載情報は各社の公開情報にもとづき最終確認日時点で整理したものです。

概要

東京エレクトロンのコーポレートベンチャーキャピタル。世界最大手の半導体・ディスプレイ製造装置メーカーである親会社とのシナジーを軸に、関連技術を持つスタートアップへの投資・技術開発支援を行う。

投資戦略・重点領域

投資ステージ
未確認

投資対象業種
半導体 ディスプレイ製造装置関連技術

基本情報

正式法人名
TEL Venture Capital, Inc.
英語名
TEL Venture Capital, Inc.
組織区分
CVC・事業会社系VC
親会社
東京エレクトロン株式会社(Tokyo Electron Limited)
設立
非開示
本社所在地
非開示
活動地域
日本 / グローバル
プロフィール確認日
2026-07-20
ポートフォリオ確認日
2026-07-20
データ更新日(掲載内容の変更日)
2026-07-20

公式公開情報で確認できる投資先(28件)

各社公式ポートフォリオ等で確認。現在/過去の区分が公式に明示されないものは「公開ポートフォリオ」と表示(推測分類しない)。会社名・ロゴから各社公式サイトへ遷移できます。

投資先業種状態最終確認
QR qromis
シリコンバレーに拠点を置くファブレス半導体企業で、次世代デバイス向けの革新的な基板ソリューションを開発している。
社名は公式サイトのドメイン表記に基づく略称。正式社名は個別未確認。
公開ポートフォリオ 2026-07-20
BL blog
社名は公式サイトのドメイン表記に基づく略称。正式社名は個別未確認。
公開ポートフォリオ 2026-07-20
CE cellid
東京を拠点に、ARグラス向けディスプレイモジュールと空間認識用ソフトウェア「Cellid SLAM」を開発・販売している。
社名は公式サイトのドメイン表記に基づく略称。正式社名は個別未確認。
公開ポートフォリオ 2026-07-20
EN en2core
韓国拠点の企業で、半導体製造向けのリモートプラズマ源(RPS)技術をPECVDやALD、ドライクリーニング等の工程向けに提供している。
社名は公式サイトのドメイン表記に基づく略称。正式社名は個別未確認。
公開ポートフォリオ 2026-07-20
FE ferroelectric-memory
強誘電体ハフニウム酸化物メモリ技術を開発し、次世代電子機器向けの先端的な不揮発性メモリを提供している。
社名は公式サイトのドメイン表記に基づく略称。正式社名は個別未確認。
公開ポートフォリオ 2026-07-20
FL floadia
低コストで組み込みやすい不揮発性メモリの知的財産(IP)を提供している。
社名は公式サイトのドメイン表記に基づく略称。正式社名は個別未確認。
公開ポートフォリオ 2026-07-20
FO fortaegis
シリコンレベルで信頼の起点を確立するセキュアコンピューティング基盤を開発し、AIや量子、重要インフラの主権的な制御を可能にする。
社名は公式サイトのドメイン表記に基づく略称。正式社名は個別未確認。
公開ポートフォリオ 2026-07-20
HI hinaleaimaging
AI活用のハイパースペクトラルイメージング技術を用いた、製品検査をサービスとして提供するインテリジェントな検査ソリューションを展開している。
社名は公式サイトのドメイン表記に基づく略称。正式社名は個別未確認。
公開ポートフォリオ 2026-07-20
NA nanosys
「量子ドットの会社」として、ディスプレイ向け量子ドット技術の開発をリードしている。
社名は公式サイトのドメイン表記に基づく略称。正式社名は個別未確認。
公開ポートフォリオ 2026-07-20
PF pf
社名は公式サイトのドメイン表記に基づく略称。正式社名は個別未確認。
公開ポートフォリオ 2026-07-20
PS psiquantum
世界初となる大規模で実用的な量子コンピューターの構築を目指している。
社名は公式サイトのドメイン表記に基づく略称。正式社名は個別未確認。
公開ポートフォリオ 2026-07-20
TS tsukubaseiko
静電チャックのリーディングカンパニーで、低電圧下でも様々な基板に対し最強クラスの吸着力を発揮する技術を持つ。
社名は公式サイトのドメイン表記に基づく略称。正式社名は個別未確認。
公開ポートフォリオ 2026-07-20
AD adaptivesurface
液体や汚染物質、生物付着を防ぐ材料・コーティングを製造している。
社名は公式サイトのドメイン表記に基づく略称。正式社名は個別未確認。
公開ポートフォリオ 2026-07-20
AL aledia
シリコン上に成長させた窒化ガリウム(GaN)の3Dナノワイヤ構造を用いた独自のLEDディスプレイ技術「WireLED」を開発・製造している。
社名は公式サイトのドメイン表記に基づく略称。正式社名は個別未確認。
公開ポートフォリオ 2026-07-20
AP appliednanolayers
既存のシリコン半導体製造プロセスに2D材料を統合する、エンドツーエンドのファウンドリソリューションを提供している。
社名は公式サイトのドメイン表記に基づく略称。正式社名は個別未確認。
公開ポートフォリオ 2026-07-20
CA cadence
半導体設計ソフトウェア大手で、買収したInvariumの光近接効果補正(OPC)等の先端リソグラフィモデリング技術を擁する。
社名は公式サイトのドメイン表記に基づく略称。正式社名は個別未確認。
公開ポートフォリオ 2026-07-20
CH chempower-corp
先端半導体の製造向けに、破壊的な平坦化(プラナリゼーション)技術を開発している。
社名は公式サイトのドメイン表記に基づく略称。正式社名は個別未確認。
公開ポートフォリオ 2026-07-20
CI cisco
シリコンCMOSフォトニクスの世界的リーダーであったLuxteraを買収した、ネットワーク機器大手企業。
社名は公式サイトのドメイン表記に基づく略称。正式社名は個別未確認。
公開ポートフォリオ 2026-07-20
EN enthought
科学分野のデジタルトランスフォーメーションを支援し、技術と専門知識で研究開発の高速化と継続的なイノベーションを実現している。
社名は公式サイトのドメイン表記に基づく略称。正式社名は個別未確認。
公開ポートフォリオ 2026-07-20
GE genalyte
バイオマーカーやタンパク質検出向けの計測機器とマルチプレックスアッセイを専門とする、次世代の臨床・ライフサイエンス企業。
社名は公式サイトのドメイン表記に基づく略称。正式社名は個別未確認。
公開ポートフォリオ 2026-07-20
HP hprobe
磁気デバイスやセンサーのウェハレベル特性評価向けに、特許取得済みの多次元磁場発生技術を提供している。
社名は公式サイトのドメイン表記に基づく略称。正式社名は個別未確認。
公開ポートフォリオ 2026-07-20
LI lightpolymers
リオトロピック液晶を基盤とした独自の化学技術による、先端的なポリマー・材料を手がける企業。
社名は公式サイトのドメイン表記に基づく略称。正式社名は個別未確認。
公開ポートフォリオ 2026-07-20
NE nexfi-tech
大阪大学発のスタートアップで、SiC(炭化ケイ素)を用いた高耐圧パワースイッチングモジュールの開発・販売を行っている。
社名は公式サイトのドメイン表記に基づく略称。正式社名は個別未確認。
公開ポートフォリオ 2026-07-20
NU numat
金属有機構造体(MOF)分野の世界的リーダーで、有害化学物質の捕集・分離技術を産業界に提供している。
社名は公式サイトのドメイン表記に基づく略称。正式社名は個別未確認。
公開ポートフォリオ 2026-07-20
OP optc
独自のIPとノウハウを持つマイクロバブル技術を手がける日本のベンチャー企業。
社名は公式サイトのドメイン表記に基づく略称。正式社名は個別未確認。
公開ポートフォリオ 2026-07-20
PH phosio
軽量ARアイウェア向けの没入型視覚体験を可能にする、先端的なレンズコーティング材料を開発している。
社名は公式サイトのドメイン表記に基づく略称。正式社名は個別未確認。
公開ポートフォリオ 2026-07-20
PI pivotalsys
半導体産業向けに、業界最高クラスのガス流量モニタリング・制御技術プラットフォームを提供していた。
社名は公式サイトのドメイン表記に基づく略称。正式社名は個別未確認。
公開ポートフォリオ 2026-07-20
PR preferred
IoT分野を中心にディープラーニング技術の事業活用を目指し、「エッジヘビーコンピューティング」を提唱する日本のAI企業。
社名は公式サイトのドメイン表記に基づく略称。正式社名は個別未確認。
公開ポートフォリオ 2026-07-20

VC・CVC業界を知る、から、投資実務を学ぶへ。

バリュエーション・財務モデリング・投資判断を、日本語で手を動かして学べる実務Excel教材をそろえています。

教材を見る →